全球稀有設備到位！imec取得艾司摩爾High NA EUV 助攻AI晶片

比利時半導體研究機構 imec 周三 (18 日) 表示，已取得一台由荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾 (ASML-US) 製造的 High NA 極紫外光 (EUV) 微影設備，價值約 4 億美元。這款設備全球僅有不到十台，被視為下一代晶片製造的重要關鍵設備，將協助產業推進更先進製程技術的研發與測試。

imec 指出，這台 High NA EUV 設備將成為其「NanoIC」試產線的核心設備。該試產線總投資規模達 25 億歐元，其中約 14 億歐元來自公共資金，包括歐盟《晶片法》(EU Chips Act) 提供的支持。imec 長期採用共享研發模式，讓半導體企業與研究機構在類似晶圓廠的環境中，共同測試並開發最新製造技術。

High NA EUV 被視為 EUV 技術的下一代升級版本。所謂 High NA(高數值孔徑) 指的是設備採用更大的光學孔徑，概念類似相機鏡頭，使得晶片電路圖案能夠縮小至更精細的尺度。艾司摩爾表示，High NA 系統可讓晶片結構尺寸縮小最多約 66%，有助於提升晶片運算速度並降低能耗。

包括英特爾 (INTC-US) 與 SK 海力士在內的晶片製造商，正準備利用 High NA 設備製造下一代人工智慧 (AI) 邏輯晶片與高頻寬記憶體(HBM)，預計最早在 2027 年開始導入量產。

imec 過去曾協助 ASML 開發 EUV 技術，如今也與多家半導體設備商建立合作關係，包括應用材料 (AMAT-US)、科林研發(LRCX-US)、科磊(KLAC-US) 以及東京威力科創(Tokyo Electron)。透過這些合作，imec 成為全球晶片企業測試與整合下一代製造設備的重要研發平台。

艾司摩爾目前是全球唯一能生產 EUV 微影設備的公司。該設備利用極紫外光將電路圖案「印製」到晶片晶圓上，是先進製程不可或缺的關鍵技術。

imec 執行長范登霍夫 (Luc Van den hove) 表示，取得這台 High NA EUV 設備，將進一步鞏固歐洲在全球半導體價值鏈中的關鍵地位，也有助於提升歐洲在晶片技術上的戰略自主與技術主權。