鉅亨網編譯余曉惠
艾司摩爾(ASML-US)極紫外光(EUV)微影機光學元件獨家供應商、德國蔡司集團(Zeiss Group)表示，中國在開發最先進晶片製造設備方面，大約落後15年。
蔡司集團半導體事業負責人Frank Rohmund接受彭博電視訪問時表示，北京要開發出EUV微影機，大約還需要15年，這是「合理的推測」，不過他也坦言，中國在這方面的實際進展難以量化。
晶片製造技術是美國阻止中國取得頂尖人工智慧(AI)晶片的重點之一，兩大經濟體正競相開發最先進的AI模型。美國禁止荷蘭艾司摩爾(ASML-US)向中國出口最先進設備，而北京則持續向本土半導體產業投入資金，力求實現晶片自主。
艾司摩爾是目前全球唯一能製造EUV微影機的企業，而EUV技術是生產輝達(NVDA-US)AI加速器等最先進晶片不可或缺的關鍵技術。
Rohmund的預估，呼應瑞銀(UBS)分析師Francois-Xavier Bouvignies等人本周的看法。瑞銀認為，中國至少還需要10年才能自行開發出國產EUV技術。
中國是ASML上一代深紫外光(DUV)晶片製造設備的重要市場之一。美國目前也要求，ASML部分較先進的浸潤式DUV設備出口中國前，必須取得許可。
Rohmund表示，若未來出口管制進一步擴大至傳統DUV設備，將對產業造成不利影響。他說：「我們不相信這些出口管制會帶來正面效果，因為這反而會加速中國的創新。」
中國在浸潤式DUV微影設備的研發與製造上，已取得進展。科技媒體《The Information》7月引述知情人士報導，一家總部位於上海的公司已開始製造這類設備。
Rohmund表示，北京已投入相關技術研發數十年，因此中國近期取得進展「並不令人意外」。
他說：「現在我們必須觀察這些設備實際上究竟有多大的能力。我們目前仍遙遙領先。」
蔡司表示，全球約80%的晶片都使用自家零組件生產。艾司摩爾於2017年以10億歐元(約12億美元)收購蔡司半導體事業的少數股權。
為因應AI帶動的需求，蔡司已擴建德國奧伯科亨(Oberkochen) 總部以增加產能，並正在另一處地點興建新工廠。
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