The Information：ASML計劃調高曝光機價格 台積電反對

知情人士透露，荷蘭曝光機製造商 ASML 計劃上調晶片製造設備價格，最近已與台積電 (2330-TW) (TSM-US) 討論此事，但台積電正設法抵制 ASML 的漲價計畫。

據《The Information》周三（15 日）報導，ASML 近幾周也告訴中國晶片廠等客戶打算提高深紫外光（DUV）設備的價格，漲幅至少 10%。

部分中國晶片製造商已同意接受 ASML 調高 DUV 設備價格，但台積電反對極紫外（EUV）與 DUV 設備同步漲價。

ASML 生產用於製造先進半導體所必需的 EUV 曝光機，在人工智慧（AI）熱潮推動下，ASML 設備需求持續激增。

ASML 最先進 DUV 曝光機單價約 9,000 萬美元，上一代 EUV 設備約 2.2 億美元，最新一代 EUV 機型售價最高可達 4 億美元。

RBC Capital Markets 分析師 Srini Pajjuri 等人在周一的報告中表示，台積電、三星電子、SK 海力士等 ASML 主要客戶的業績強勁，使當前市場環境「具備漲價條件」。

ASML 財務長 Roger Dassen 周三在財報電話會上也提及，可能調整較低數值孔徑（Low NA）EUV 曝光機的價格。

Dassen 表示：「我們持續提升 Low NA EUV 設備的生產效率，這也為未來潛在價格提升提供了相當大的空間。」

不過，他也提到，由於設備訂單交付周期較長，即使調整價格，也不會「明天就反映到定價效果上」。

ASML 當天還宣布，今年第二次上調全年銷售預測，並計劃擴大產能，以滿足持續增長的市場需求。ASML 預估 2026 年淨銷售額將達到 430 億至 450 億歐元（約 492 億美元至 515 億美元），高於分析師普遍預期。

與此同時，ASML 表示，英特爾 (INTC-US) 已開始使用旗下最先進曝光機進行生產晶片。ASML 執行長 Christophe Fouquet 認為，這表明該設備已具備商業化生產的可行性，是一個積極信號。