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台積電2奈米製程啟動新一輪資本支出循環:聖暉、上品、新應材

鉅亨研報


台積電 (2330-TW) 位於竹科寶山與中科的 2 奈米基地建廠進度穩定,預計 2025 年中進入初期量產,2026 年達全面放量,該製程採用 GAA 全環繞閘極架構,相較 N3 製程可提升 15~20% 效能並降低 25~30% 功耗,隨先進製程投片量提升,台積電同步擴增廠務、公用設施與化學品系統建置,帶動無塵室、氣體管線、化學材料及清洗製程供應鏈全面啟動第二波資本支出循環。

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台積電2奈米製程啟動新一輪資本支出循環:聖暉、上品、新應材(圖:shutterstock)

〈聖暉受惠無塵室與系統工程擴產,訂單能見度延伸至 2026〉


隨台積電 2 奈米廠房陸續封頂,聖暉 (5536-TW) 持續受惠於無塵室與機電系統工程需求。公司在半導體廠務整合領域具技術優勢,承攬範圍涵蓋 HVAC、排氣與氣體供應系統,並切入台積電、聯電與美系半導體廠的新建與擴產專案,受惠 2 奈米與先進封裝廠同步開建,聖暉手中在建工程金額創歷史新高,訂單能見度已延伸至 2026 年中,營收動能維持高檔。

〈上品強化氣體供應與排放系統布局,配合新製程高純度需求〉

上品 (4770-TW) 主要承作半導體氣體供應與化學廢氣排放系統工程,近年隨先進製程化學品使用種類與純度要求提高,客戶持續擴大高純度氣體供應系統投資,公司目前參與台積電中科與高雄廠房工程,同時承攬部分歐美設備廠在台擴廠專案,隨著台積電 2 奈米產能提升,上品有望受惠於氣體處理與環控工程擴增,2025 年營收可望續創高。

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〈新應材切入 2 奈米化學品改質與清洗製程〉

新應材 (4749-TW) 在台積電高階製程中持續擴大滲透率,其 Rinse 改質劑已於 3 奈米製程導入量產,並於 2 奈米試產階段驗證中,該產品具備高潔淨性與低離子殘留特性,能有效提升晶圓清洗良率與介面平整度,2 奈米良率初期改善需求強烈,新應材將持續受惠於改質與清洗材料需求擴大,且 2025 年起成為該製程主要供應商之一。

〈2 奈米推動設備、工程與材料同步成長〉

2 奈米製程新一輪資本支出,帶動廠務、工程與材料需求全面升溫,聖暉 (5536-TW) 受惠於無塵室與系統工程量增加,上品 (4770-TW) 受惠於氣體與環控系統擴產,而新應材 (4749-TW) 則在化學改質材料領域持續擴張,隨 2 奈米於 2025 年進入量產倒數期,相關供應鏈可望提前反映拉貨動能,成為台股半導體族群中具結構成長潛力的代表。

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文章來源:陳智霖分析師 / 凱旭投顧

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