EUV的真正老大！德國蔡司獨家鏡組 成美國「鎖死」中國晶片關鍵王牌

在全球半導體產業的激烈競逐中，ASML 生產的極紫外光（EUV）微影機，始終是技術制高點。然而，這項尖端設備的核心組件，卻是由德國光學巨擘蔡司（Zeiss）獨家供應的高精度鏡組，這使得蔡司在美國試圖遏制中國半導體發展的戰略中，成為了一個不可忽視的關鍵節點。

蔡司技術長史塔姆勒（Thomas Stammler）曾公開指出，全球約有八成的晶片採用了蔡司的光學元件製造。

蔡司半導體製造光學部門與 ASML 的長期合作，早在浸潤式深紫外光（DUV）微影機時代就奠定了基礎。憑藉這項技術，兩家公司擊敗了日系的尼康（Nikon）和佳能（Canon），共同成為了微影設備市場的龍頭，並成功延續了摩爾定律。

無論是用於驅動汽車、手機、家電或工業設備的晶片，從成熟製程到最尖端製程，蔡司的鏡頭組件都是 ASML 微影設備中不可或缺的獨家核心。

蔡司的工藝水準達到了令人難以置信的程度。據悉，如果將製造光刻機的鏡組等比例放大到德國國土的面積，其平整度誤差仍能維持在 0.1 毫米之內。蔡司副總裁 Frank Rohmund 透露，他們已累積了超過 1,500 項與 EUV 相關的技術專利。

這道由專利和精密工藝築成的技術高牆，使任何其他企業想繞過蔡司自行製造 EUV 微影機的鏡組，幾乎是微乎其微的希望。即使僥倖繞開部分專利，也難以達到蔡司產品的頂級技術水準，進而無法用於先進晶片的量產。

EUV 微影技術的研發歷史已超過二十年，其成功不僅是單一公司的成就，更是全球化合作的典範。蔡司與 ASML 的背後，有美國資本、德國政府以及歐盟等多元勢力的共同支持。其龐大的供應鏈涵蓋了全球超過 1,200 家供應商，凸顯了全球分工與頂級資源整合才是光刻機和晶片產業的核心發展模式。

此外，為了確保極致的製造品質，蔡司為其核心元件製造建立了獨立的高潔淨工廠。普通室內空氣中每立方公尺約有上億個懸浮微粒，而蔡司的潔淨室能將灰塵數量大幅減少至 3,500 個左右，並配備空氣過濾和淨化裝置，確保設備運作的絕對精確度。

蔡司半導體部門擁有超過 7,500 名專業員工，其中約 1,500 人投入最新的 High NA-EUV 微影機研發。其人才來自全球各地，涵蓋了配鏡師、機械工程師、機電整合工程師等頂尖人才。這種深度綁定的人才體系和企業文化，為蔡司創造了難以模仿的競爭優勢。

面對國際間的地緣政治角力，過去曾仰賴全球化供應鏈的中國及其他地區，如今正被迫思考自主研發和國產化的道路。

雖然台灣在光學元件領域發展較早，例如早在 1950 年代就有相機廠製造國產相機的初步經驗，但要達到微影機核心鏡組所需的極致精度，仍是巨大挑戰。然而，台灣光學廠商如大立光、玉晶光等，正持續在手機鏡頭、顯微鏡、醫療設備等領域進行自主技術猛攻，這與蔡司早年的發展路徑不謀而合。

精密元件的製造是確保半導體產業自主性必須面對的核心問題，唯有在全球化合作與自主技術研發兩條腿走路，才能在未來的科技競爭中立於不敗之地。

在全球半導體產業的激烈競逐中，ASML 生產的極紫外光（EUV）微影機，始終是技術制高點。然而，這項尖端設備的核心組件，卻是由德國光學巨擘蔡司（Zeiss）獨家供應的高精度鏡組，這使得蔡司在美國試圖遏制中國半導體發展的戰略中，成為了一個不可忽視的關鍵節點。

蔡司技術長史塔姆勒（Thomas Stammler）曾公開指出，全球約有八成的晶片採用了蔡司的光學元件製造。

蔡司半導體製造光學部門與 ASML 的長期合作，早在浸潤式深紫外光（DUV）微影機時代就奠定了基礎。憑藉這項技術，兩家公司擊敗了日系的尼康（Nikon）和佳能（Canon），共同成為了微影設備市場的龍頭，並成功延續了摩爾定律。

無論是用於驅動汽車、手機、家電或工業設備的晶片，從成熟製程到最尖端製程，蔡司的鏡頭組件都是 ASML 微影設備中不可或缺的獨家核心。

蔡司的工藝水準達到了令人難以置信的程度。據悉，如果將製造光刻機的鏡組等比例放大到德國國土的面積，其平整度誤差仍能維持在 0.1 毫米之內。蔡司副總裁 Frank Rohmund 透露，他們已累積了超過 1,500 項與 EUV 相關的技術專利。

這道由專利和精密工藝築成的技術高牆，使任何其他企業想繞過蔡司自行製造 EUV 微影機的鏡組，幾乎是微乎其微的希望。即使僥倖繞開部分專利，也難以達到蔡司產品的頂級技術水準，進而無法用於先進晶片的量產。

EUV 微影技術的研發歷史已超過二十年，其成功不僅是單一公司的成就，更是全球化合作的典範。蔡司與 ASML 的背後，有美國資本、德國政府以及歐盟等多元勢力的共同支持。其龐大的供應鏈涵蓋了全球超過 1,200 家供應商，凸顯了全球分工與頂級資源整合才是光刻機和晶片產業的核心發展模式。

此外，為了確保極致的製造品質，蔡司為其核心元件製造建立了獨立的高潔淨工廠。普通室內空氣中每立方公尺約有上億個懸浮微粒，而蔡司的潔淨室能將灰塵數量大幅減少至 3,500 個左右，並配備空氣過濾和淨化裝置，確保設備運作的絕對精確度。

蔡司半導體部門擁有超過 7,500 名專業員工，其中約 1,500 人投入最新的 High NA-EUV 微影機研發。其人才來自全球各地，涵蓋了配鏡師、機械工程師、機電整合工程師等頂尖人才。這種深度綁定的人才體系和企業文化，為蔡司創造了難以模仿的競爭優勢。

面對國際間的地緣政治角力，過去曾仰賴全球化供應鏈的中國及其他地區，如今正被迫思考自主研發和國產化的道路。

雖然台灣在光學元件領域發展較早，例如早在 1950 年代就有相機廠製造國產相機的初步經驗，但要達到微影機核心鏡組所需的極致精度，仍是巨大挑戰。然而，台灣光學廠商如大立光、玉晶光等，正持續在手機鏡頭、顯微鏡、醫療設備等領域進行自主技術猛攻，這與蔡司早年的發展路徑不謀而合。

精密元件的製造是確保半導體產業自主性必須面對的核心問題，唯有在全球化合作與自主技術研發兩條腿走路，才能在未來的科技競爭中立於不敗之地。