〈SEMICON〉銳澤亮相兩大新設備 明年展望樂觀

氣體供應系統廠銳澤 (7703-TW) 今年參與 SEMICON 推出新產品，總經理周谷樺今 (11) 日指出，此次推出的兩大產品可有效應對粉塵堆積與管道阻塞問題，同時可大幅提升客戶良率，目前正積極送樣給客戶，客戶初步反應正面，預期未來若有需求，將達百台規模，可望挹注後續營運。

展望未來，隨著半導體與記憶體客戶新廠擴建計畫持續進行，周谷樺看好，今年已完成全球布局，現階段公司在美國、日本、新加坡皆有設立子公司，正逐步全球化，也從二次配往主系統方向前進，要成為氣體系統完整解決方案供應商，看好明年新加坡、美國營收以及新設備將成為成長新動能。

銳澤此次展出環保高效能的「肘管集塵裝置 ECD (Elbow Capture Device)」與「粉塵捕捉器 PCD (Powder Capture Device)」，專為應對半導體製造 Sub-Fab 端長期存在的粉塵堆積與管道堵塞問題而生，有望大幅提升製程良率、降低非預期停機風險，並顯著優化營運成本。

銳澤指出，先進製程技術演進對於設備與服務日益嚴謹，銳澤因應此趨勢推出「肘管集塵裝置 ECD」，巧妙設計於 Dry pump 出口處，透過獨特的位移式換管機制，結合集塵與清潔功能，並可在無需停機的情況下進行管件更換與清潔，徹底顛覆傳統清管模式，大幅縮短清管所需的非生產時間，更以機械方式清除肘管粉塵，完全不需耗費水與氣體資源，大幅降低了水電及廢氣處理成本，為半導體製造商帶來兼具效能與經濟效益的解決方案。

銳澤的「粉塵捕捉器 PCD」，主要解決 SubFab 端管道粉塵堵塞導致的無預警當機問題，以及現有灑水式 Local Scrubber 對於先進製程中 PM2.5 以下微細粉塵去除效率不佳的挑戰。

周谷樺說，隨著半導體製程線寬不斷縮小，對微粒控制的要求日益嚴苛，傳統的粉塵處理方式已難以滿足先進製程的需求，且銳澤的粉塵捕捉器採用了創新的「主動式氣旋分離」技術，能有效捕捉粉塵，避免其堆積於管壁，從根本上解決粉塵堵塞的難題。